4月16日，隨著起重機的緩緩升起，蘇州晶洲裝備科技有限公司自主研發(fā)生產的國產首臺氫氟酸清洗(HF Cleaner)設備在客戶端被吊裝至對接平臺，隨即推入廠房，順利搬入。晶洲裝備對該設備的順利搬入表示衷心的祝福，希望在后續(xù)的建設過程中，可以用更優(yōu)質的服務為客戶的生產提供助力！
氫氟酸清洗作為顯示制程中的關鍵環(huán)節(jié)，其清洗效果直接影響到器件結構的最終性能、效率與穩(wěn)定性，關系到最終產品的良品率。氫氟酸清洗不僅要去除有源層表面的雜質而且要使表面鈍化，從而減少界面雜質的吸附能力，對表面的潔凈度要求非常嚴格，理論上不允許存在任何顆粒、金屬離子、有機粘附、水汽以及氧化層，對表面要求具備原子級的平坦度，保障后制程的工藝可靠性。
在此之前，HF Cleaner生產廠商都是日韓廠商。新型顯示屬我國的戰(zhàn)略性新興產業(yè)，隨著顯示產業(yè)發(fā)展進入高質量發(fā)展的關鍵階段，需要構建“最具創(chuàng)新牽引能力、最強供應安全保障能力、最優(yōu)成本競爭力”的產業(yè)生態(tài)圈。此次國產首臺HF Cleaner設備的順利搬入，一方面完善了產業(yè)結構，穩(wěn)定了供應鏈，另一方面以先天的本地化優(yōu)勢，在近距離進行以客戶為導向的創(chuàng)新與密切合作，用快捷高效的服務解決客戶的后顧之憂，為產品帶來更好的綜合競爭力。
晶洲裝備一直以創(chuàng)新謀發(fā)展，堅持推動產業(yè)鏈上游裝備國產化，以完善穩(wěn)定產業(yè)供應鏈為目標，全面打通了陣列(Array)、蒸鍍(OLED)、成盒(CELL)、彩膜(CF)、觸控(TSP)各工序濕法裝備應用，完成了G2.5-G10.5全系列濕法裝備應用布局。發(fā)展至今，晶洲在顯示面板濕制程裝備技術上取得一系列成果榮譽，這離不開客戶的需求引導和技術支持；客戶的認可，是對晶洲裝備多年來在濕制程裝備領域努力耕耘的最大肯定，晶洲將在此基礎上，繼續(xù)努力，堅持長期主義，以創(chuàng)新謀發(fā)展，助推新興顯示產業(yè)高質量發(fā)展。
